GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环
标准编号：GB/T 41652-2022
标准名称：刻蚀机用硅电极及硅环
英文名称：Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
中国标准分类号（CCS）
H82
国际标准分类号（ICS）
29.045
发布日期
2022-07-11
实施日期
2023-02-01
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准化管理委员会
起草人
库黎明、孙燕、夏秋良、潘金平、闫志瑞、张果虎
起草单位
有研半导体硅材料股份公司、新美光（苏州）半导体科技有限公司、山东有研半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司
适应范围
本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。
本文件适用于p<100>拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200mm~450mm的硅电极及硅环。