GB/T 24581-2009 低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中III、V族杂质含量的测试方法

标准编号:GB/T 24581-2009

标准名称:低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中III、V族杂质含量的测试方法

英文名称:Test method for low temperature FT-IR analysis of single crystal silicon for Ⅲ-Ⅴ impurities

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中国标准分类号(CCS)
H80
国际标准分类号(ICS)
29.045
发布日期
2009-10-30
实施日期
2010-06-01
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门
国家标准化管理委员会
起草人
梁洪、过惠芬、吴道荣
起草单位
四川新光硅业科技有限责任公司
适应范围

本标准适用于检测硅单品中的电活性元素硼(B)、磷(P)、砷(As)、铝(Al)、锑(Sb)和镓(Ga)的含量。 本标准所适用的硅中每一种电活性元素杂质或掺杂剂浓度范围为(0.01×10~5.0×1O)a。 每种杂质或掺杂剂的浓度可由比耳定律得到,并给出了对每个元素的校准因子。